全普光電MEMS微鐳射投影系統介紹

從08年開始，全譜光電就已經與美國微視（Microvision）達成戰略合作，將MEMS微鐳射顯示系統的技術進一步提升。

全譜光電所研發的MEMS微鐳射顯示模組，從起初的600x480解析度、直至後來的960x640、1080x720，至今目前解析度已達到1920x720，

全普光電的MEMS微鐳射投影技術結構主要有兩大部分

一是由鐳射模組中的紅綠藍三基色（RGB）鐳射管通過內部光學系統產生一顏色光強可變且具有高度空間相關性的單圖元點雷射光束，以實現無需調焦投影。

二是將單圖元點雷射光束投射至同步掃描的雙軸MEMS微鏡上，利用圖元陣列掃描模式的微鏡運動將圖像一點一點地“畫”在投影屏上。

與傳統投影設備中的鹵化物燈相比，鐳射是一種非常高效的光源。鐳射投影系統的機械部件很少，雷射光束可以通過鏡面進行偏轉，系統穩定性好。執行時間長達1萬多個小時。

各圖元點鐳射的顏色及亮度受圖像信號調製，在每個圖元點上可產生1600萬種顏色（24位真彩）。這樣產生出來的圖像具有極其鮮亮的色彩。鐳射管可關可開。這樣的系統功耗小且圖像對比度高。

單圖元點光學系統的設計保證了雷射光束的高度空間相關性，所以投影出來的圖像總是聚焦的，清晰的。換言之，全普光電的MEMS微鐳射投影無需對焦。不管是以垂直或傾斜角度投影到平面上，還是投到任意三維體的表面，圖像都是清晰的，是真正意義上的隨時隨地，隨心所欲的投影技術。截至目前為止，市面上所有的投影設備當投影距離改變時都需要對焦，

全譜光電MEMS微鐳射投影技術的優點：

結構簡單、體積小，光路損耗小（約3%的損耗）、功耗低、色彩範圍廣、對比度大、解析度高，無需對焦。

全譜投影系統搭載最先進的MEMS微鐳射模組