近日， 由北方華創下屬子公司北方華創微電子自主研發的國內首台12英寸原子層沉積（AtomicLayerDeposition， ALD）設備進駐上海積體電路研發中心。
北方華創微電子為國產高端裝備在先進積體電路晶片生產線的應用再添新秀。
ALD設備是先進積體電路製造工藝中必不可少的薄膜沉積設備， ALD工藝具有工藝溫度低、薄膜厚度控制精確及臺階覆蓋率高等優點。
在積體電路特徵線寬發展到28納米節點後， ALD工藝應用日益廣泛。 北方華創微電子自2014年開始佈局ALD設備的開發計畫， 歷時四年， 成功推出中國首台應用於積體電路領域的量產型單片ALD設備——PolarisA630，
此次， 北方華創微電子PolarisA630ALD設備以參與公開競標方式， 成功進駐上海積體電路研發中心有限公司， 同時中標的產品還有北方華創微電子積體電路AlPad工藝的eVictorA1030物理氣相沉積系統。
至此， 北方華創微電子已有矽刻蝕機、單片退火設備、HardmaskPVD、AlPadPVD、單片清洗機、立式爐、ALD等積體電路設備應用於28-14納米工藝制程， 擴展了國產高端裝備在積體電路先進制程的配套應用範圍。
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