安卓中國2017年3月15日消息， 雖然現在還是有很多手機都沒用上16nm、14nm乃至10nm的手機晶片， 但是對於晶片廠商而言， 這並不是他們不加以創新的藉口。 所以， 7nm的到來勢在必行。
近日， 在上海舉辦的中國國際半導體技術大會(CSTIC)上， 三星電子就展示了自己的半導體工藝路線圖， 並特別提到了7nm、5nm的工藝技術， 明確表示會分別在2018年、2020年就投入量產。
三星表示， 隨著半導體工藝走向後10nm時代， 廠商們會面臨越來越嚴峻的挑戰， 尤其是如何保證足夠高的良品率。 為此三星特別提出了一項新的技術——環繞柵極場效應電晶體(GAA FET)技術， 並且將會用在7nm、5nm工藝上。
三星指出， 他們的7nm工藝將面向高性能晶片製造， 包括GPU、AI、伺服器、ADAS(先進駕駛輔助系統)等等。
值得注意的是， 台積電和三星的10nm工藝都是主打高能效、低功耗的移動晶片應用，
點擊下方訂閱按鈕關注[安卓中國]， 瞭解更多手機科技數碼資訊
登陸[安卓中國]官網流覽更多精彩內容（https://www.anzhuo.cn）