根據《路透社》的報導， 日本光學大廠尼康（Nikon）於24日表示， 已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML Holding NV）和合作夥伴卡爾·蔡司（Carl Zeiss AG）提起法律訴訟， 並表示ASML及Carl Zeiss兩家公司在未經Nikon的許可下將其微影（lithography）技術專利用於光刻機上， 並運用在半導體製造業中。
報導進一步表示， 世界第8大晶片設備製造商Nikon在24日指出， 已經在荷蘭、德國和日本針對生產半導體光刻機的荷蘭廠商ASML和旗下光電供應商Carl Zeiss提起了專利侵權案件。 Nikon在一份聲明中指出， ASML和Carl Zeiss在沒有得到許可的情況之下， 採用了Nikon的專利技術， 運用在ASML的光刻機中。 而光刻機是用在全球的半導體製造業中先進制程不可缺少的設備，
目前在全球的半導體設備市場中， ASML主導半導體光刻機的產品。 根據惠譽評級（Fitch Ratings）在2017年1月份的一份研究報告中指出， 這家荷蘭公司在這樣的高端的半導體設備中， 佔有90%的市場佔有率。 而根據ASML在19日所公佈的2017年第1季財報顯示， 第1季營收淨利達19.4億歐元， 毛利率為47.6%， EUV極紫外光微影系統的未出貨訂單則累積到21台， 價值高達23億歐元。 而且預估ASML在2017第2季營收淨利將落在19到20億歐元之間， 毛利率約為43%到44%。
ASML的總裁兼執行長Peter Wennink對於Nikon所發起的訴訟表示， Nikon所提起的訴訟不但不必要， 還毫無根據。 而且， 這還將對於全球半導體產業造成不確定性。
Nikon則表示， 法律訴訟是在由美國退休法官于2016年底進行的調解未成之後所決定發起的。 而根據Nikon的說法， 提起訴訟的3項微影技術專利， ASML和Carl Zeiss兩家公司分別在2004年支付Nikon 8,700萬美元和5,800萬美元的授權金。 授權期限在2009年到期， 而2014年底其專利權的過渡期也到期之後， 雙方在2016年底經過調解協商延長交叉授權合約未成。