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7.17版本:2017新魔法少女皮膚表情系統

美測試服更新7.17版本, 新英雄奧恩上線, 2017星之守護者系列新皮膚登場:EZ、辛德拉、阿狸、星媽、厄運小姐;表情系統上線。

新英雄

山隱之焰 奧恩

活體鍛爐和工匠大師(被動)

活體鍛爐:奧恩可以在脫離戰鬥的情況下使用金幣給自己鑄造裝備。 方便起見, 螢幕上會出現一個推薦裝備的功能表, 而奧恩也可以打開商店, 隨意選擇想要製造的物品

工匠大師:奧恩和自己的隊友可以給某些特定的裝備進行升級。

每個玩家只能獲得一次機會

火山突塹(Q)

奧恩猛擊地面砸出一條溝壑, 造成物理傷害並減速敵人。 短暫的延遲後, 會朝著目標方向生成一道阻隔地形的熔岩柱, 持續存在幾秒鐘

風箱炎息(W)

奧恩獲得一個護盾, 全身噴火, 並進入不可阻擋狀態。 火焰會按照敵人當前的生命值造成百分比的魔法傷害。 被技能結束前的火焰命中的敵人會變成易碎狀態。 奧恩的普通攻擊會擊退易碎的目標。

易碎:在易碎狀態下, 敵人被移動限制效果影響時, 還會受到百分比最大生命值的額外傷害。 並且受到的移動限制效果的持續時間也會延長

熾烈衝鋒(E)

奧恩衝鋒, 並對沿路的敵人造成傷害。 如果奧恩在衝鋒時撞到牆上,

就會造成一股衝擊波, 擊飛並傷害敵人。 衝鋒會摧毀由玩家創造的地形

熔鑄之神的召喚(R)

奧恩在指定地點召喚出一個巨大的岩漿元素。 岩漿元素會朝著奧恩移動, 速度逐漸加快。 被岩漿元素碾過的敵人會受到魔法傷害, 並變成易碎狀態

奧恩可以再次釋放這個技能, 自身向前衝鋒。 如果他撞上了岩漿元素, 就可以調轉岩漿元素的方向。 調轉了方向的岩漿元素可以擊飛敵人, 造成與之前等量的傷害, 並施加易碎狀態。

·

新皮膚

雷神 奧恩(1350RP)

魔法少女 索拉卡(1350RP)

魔法少女 辛德拉(1350RP)

魔法少女 厄運小姐(1350RP)

魔法少女 阿狸(1820RP)

星之守護者 伊澤瑞爾(1350RP)

·

新遊戲模式:入侵

玩家數:5

地圖:瓦洛倫城市公園

模式類型:五人合作戰役

獲勝條件:擊退一系列入侵的怪物, 最終打敗BOSS

遊戲流程:

遊戲由7次遭遇戰組成, 以最後的BOSS為收尾

準備好後可以在區域中間的星星處進行引導, 所有人準備好後進入下一階段

·

遭遇戰類型:

總共有4種

-生存

擊敗所有敵人, 會出現好幾波

-逃脫

你和隊友到達逃脫點,其中一名玩家到達逃脫點時,遊戲勝利

離開星之守護者結界會讓你承受傷害,離開時間越長,承受越多

-防禦

你和你的隊友被困在了結界中,擊敗敵人

需要擊敗所有的敵人,離開結界會承受傷害

-BOSS戰

擊敗BOSS

·

BOSS類型:

·

表情系統

現在可以在不同的場合表達自己

有一個轉盤可以選擇自己要展示的表情

轉盤的選項可以自己自訂

·

新的召喚師圖示

星之守護者

山隱之焰 奧恩

·

新的守衛眼皮膚

星之守護者

·

英雄改動

曙光女神 蕾歐娜

日光(被動)

持續時間由3.5秒降低至1.5秒

傷害由20-105提高到30-166

破曉之盾(Q)

冷卻時間由9/8/7/6/5秒降低至全等級5秒

·

戰爭之影 赫卡裡姆

暗影衝擊(R)

恐懼時間由1秒調整為0.75-1.5秒(隨移動距離增加)

·

設計師雜談

阿茲爾

改動還在進展中,目前的計畫是減少攻擊範圍,將能力轉移到別的方面

下一步會請一些資深的阿茲爾玩家來測試,看看他們和對手的遊戲體驗

凱隱

7.16有一個改動,使得DOT傷害無法快速幫助凱隱疊被動

對打野凱隱不會有什麼影響,但會對線上的凱隱造成打擊

·

7.17改動

-德萊文:

削弱,可能是死亡後會丟失更多被動層數

-赫卡裡姆:

增強,大招的恐懼時間隨移動距離提高,大概是由1秒調整為0.75-1.5秒

-蕾歐娜:

增強,被動傷害增加,但持續時間減少

蕾歐娜在高端局的表現不佳,所以我們想為她的一次成功的團隊協作做一點獎勵

同時還在考慮減少Q的CD

-迦娜:

削弱,不讓她如此全面,同時讓她的技能組不是特別被動

目前在嘗試提高技能CD,但若W命中敵方英雄,會減少技能CD或者回復法力值

目標讓其更具侵略性,但並不確定這是最終方向

-劫:

加強,最近表現不佳,裝備有了翻天覆地的變化

他的傷害足夠了,所以考慮提高影子的持續時間(4.5秒提高到5秒)

·

奧恩的裝備升級

簡單來說,升級裝備會給團隊提供恰當的提升,但有些英雄組合會受益更多,而這正是我們希望看到的。

-逃脫

你和隊友到達逃脫點,其中一名玩家到達逃脫點時,遊戲勝利

離開星之守護者結界會讓你承受傷害,離開時間越長,承受越多

-防禦

你和你的隊友被困在了結界中,擊敗敵人

需要擊敗所有的敵人,離開結界會承受傷害

-BOSS戰

擊敗BOSS

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BOSS類型:

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表情系統

現在可以在不同的場合表達自己

有一個轉盤可以選擇自己要展示的表情

轉盤的選項可以自己自訂

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新的召喚師圖示

星之守護者

山隱之焰 奧恩

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新的守衛眼皮膚

星之守護者

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英雄改動

曙光女神 蕾歐娜

日光(被動)

持續時間由3.5秒降低至1.5秒

傷害由20-105提高到30-166

破曉之盾(Q)

冷卻時間由9/8/7/6/5秒降低至全等級5秒

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戰爭之影 赫卡裡姆

暗影衝擊(R)

恐懼時間由1秒調整為0.75-1.5秒(隨移動距離增加)

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設計師雜談

阿茲爾

改動還在進展中,目前的計畫是減少攻擊範圍,將能力轉移到別的方面

下一步會請一些資深的阿茲爾玩家來測試,看看他們和對手的遊戲體驗

凱隱

7.16有一個改動,使得DOT傷害無法快速幫助凱隱疊被動

對打野凱隱不會有什麼影響,但會對線上的凱隱造成打擊

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7.17改動

-德萊文:

削弱,可能是死亡後會丟失更多被動層數

-赫卡裡姆:

增強,大招的恐懼時間隨移動距離提高,大概是由1秒調整為0.75-1.5秒

-蕾歐娜:

增強,被動傷害增加,但持續時間減少

蕾歐娜在高端局的表現不佳,所以我們想為她的一次成功的團隊協作做一點獎勵

同時還在考慮減少Q的CD

-迦娜:

削弱,不讓她如此全面,同時讓她的技能組不是特別被動

目前在嘗試提高技能CD,但若W命中敵方英雄,會減少技能CD或者回復法力值

目標讓其更具侵略性,但並不確定這是最終方向

-劫:

加強,最近表現不佳,裝備有了翻天覆地的變化

他的傷害足夠了,所以考慮提高影子的持續時間(4.5秒提高到5秒)

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奧恩的裝備升級

簡單來說,升級裝備會給團隊提供恰當的提升,但有些英雄組合會受益更多,而這正是我們希望看到的。

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