科技行業猛料：中芯國際要做大晶片生產量 將來必須要用EUV光刻機

一方面， 2016年， 中國半導體銷售總額為11985.9億元人民幣， 在全球半導體銷售總額中占比超過一半。 並且， 到目前， 全球前二十大半導體廠商都在中國設有技術和產品研發中心、生產基地等分支機搆。

而中國本土各家半導體廠商也正在積極融入到全球半導體產業中。 另一方面， 就全球範圍而言， 中國半導體產業總體競爭能力仍然不是太強。 中國本土各家晶片製造廠商現有制程（工藝）技術， 仍然是比國外同行中一些晶片製造廠商落後了2代左右。 中國晶片設計產業產值在全球晶片設計產業總產值中占比還比較低。 當然， 中國本土也需要成長出更多中、大型IDM廠商（整合元件製造廠商）。

半個多月前， “2017年北京微電子國際研討會”在北京經濟技術開發區豐大國際酒店中舉辦。 中芯國際CEO趙海軍也親臨本場研討會現場， 並在研討會上登臺發表主旨演講——《專注大生產技術》。

趙海軍當眾講到：

第一， 摩爾定律現在依然在全球半導體產業中發揮著積極作用。 當7nm制程工藝成為整個晶片製造行業主流制程時， 則EUV光刻機（極紫外光刻機）也將會被各家晶片製造廠商競相爭搶。 “摩爾定律現在還在繼續發展， EUV將在7nm形成主流， EUV變化非常大， 很多環節都要重新開始， 變化來得太快， 28nm工藝如果到7nm， 性能可以增長68%， 如果巨大的增長， 很多Foundry（晶圓代工廠商/晶片代工廠商）一定會去做”。 一般地， 一家晶片代工廠商， 從某位元客戶那裡獲得一個晶片生產訂單開始算起， 就一定要在60天之內為這個客戶生產完所有矽片， 這些矽片再經過封裝和測試等環節， 大約又需要用時一個月。 然而， 如果這家晶片代工廠商採用EUV光刻技術為那位元客戶生產完所有晶片，

所用生產時長會大大縮短。 “EUV最大的優點是可以20多天出廠， 而用其他工藝要80多天， 做大生產必須要用到EUV”。

第二， 中國一定要有一家以上大型晶片代工廠商， 並在制程技術方面處在全球一流水準。 能夠和英特爾、台積電、三星、格羅方德等晶片製造廠商處於全球第一競爭陣營。

中芯國際十分注重研發更先進制程及其相關技術， 且至今積累有不少專利。 “在先進FinFET技術節點一次性投入10億美元的研發經費， 並且分擔到生產廠裡面， 把錢投入下一代的技術研發裡面， 這樣才能夠持續發展”。 無論是現在， 還是將來， 中芯國際都會繼續運用FinFET技術來為客戶們生產各種晶片。 蘋果、三星、華為和小米等公司都可以成為全球半導體產業中一員。 蘋果、谷歌、亞馬遜、百度和阿裡巴巴等公司都具備開發終端和雲端產品能力。 全球一定會跨入到5G時代， 中國物聯網及其相關產業一定會大發展。 這對中國各家半導體廠商而言， 當是一大新市場機遇。

平面型電晶體與 FinFET 架構對比

FinFET 結構面臨哪些關鍵工藝挑戰

未來電晶體結構可能採用新鰭材料或“全包覆柵極”設計

2017年9月25日，臺灣《電子時報》也有報導：整個2017年，全球第一大光刻機設備廠商ASML（阿斯麥）只能生產出12台EUV光刻機，且這12台EUV光刻機其實早被台積電和三星等數家晶片製造廠商給預訂完了。全球之所以唯有ASML能夠生產出這些EUV光刻機，原因就在於每台EUV光刻機都是有著極高生產難度，每台EUV光刻機所需一些核心零組件也涉及到高難技術。即便每台EUV光刻機市價貴過1億歐元，台積電和三星等晶片製造廠商也是搶著向ASML採購這些EUV光刻機。到目前為止，數家晶片製造廠商累計向ASML預訂了27台EUV光刻機。

《電子時報》在報導中提到：台積電、三星和格羅方德等晶片製造廠商都相繼宣佈要在2018年投產7nm制程工藝，都需要運用到EUV光刻技術。中芯國際等中國晶片製造廠商能不能按計劃順利推進到14nm及其以下制程工藝，ASML今後會在此進程中扮演起關鍵角色。另外，台積電、三星、格羅方德和聯華電子（廈門聯芯）都已把先進制程技術帶進了中國，中芯國際目前所擁有最先進制程僅是28nm制程，中芯國際因此面臨著不小同業競爭壓力。比如，台積電南京工廠在2018年開始就投產16nm制程工藝。中芯國際2017年半年報資料顯示：中芯國際計畫在2017年資本開支為23億美元，主要用來擴產北京和深圳工廠28nm制程產能，以及研發14nm FinFET制程工藝。

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2017年9月25日，臺灣《電子時報》也有報導：整個2017年，全球第一大光刻機設備廠商ASML（阿斯麥）只能生產出12台EUV光刻機，且這12台EUV光刻機其實早被台積電和三星等數家晶片製造廠商給預訂完了。全球之所以唯有ASML能夠生產出這些EUV光刻機，原因就在於每台EUV光刻機都是有著極高生產難度，每台EUV光刻機所需一些核心零組件也涉及到高難技術。即便每台EUV光刻機市價貴過1億歐元，台積電和三星等晶片製造廠商也是搶著向ASML採購這些EUV光刻機。到目前為止，數家晶片製造廠商累計向ASML預訂了27台EUV光刻機。

《電子時報》在報導中提到：台積電、三星和格羅方德等晶片製造廠商都相繼宣佈要在2018年投產7nm制程工藝，都需要運用到EUV光刻技術。中芯國際等中國晶片製造廠商能不能按計劃順利推進到14nm及其以下制程工藝，ASML今後會在此進程中扮演起關鍵角色。另外，台積電、三星、格羅方德和聯華電子（廈門聯芯）都已把先進制程技術帶進了中國，中芯國際目前所擁有最先進制程僅是28nm制程，中芯國際因此面臨著不小同業競爭壓力。比如，台積電南京工廠在2018年開始就投產16nm制程工藝。中芯國際2017年半年報資料顯示：中芯國際計畫在2017年資本開支為23億美元，主要用來擴產北京和深圳工廠28nm制程產能，以及研發14nm FinFET制程工藝。