SwissLitho AG攜EVG開發造3D光學結構的聯合納米壓印光刻解決方案

雖然可以在納米級3D列印微光學， 但創始公司SwissLitho AG製造新型納米光刻工具， 希望革新納米製造。 由於與EV集團（EVG）的新合作夥伴關係， EV集團（EVG）為製造半導體、微機電系統（MEMS）和納米技術設備提供晶圓接合和光刻設備和工藝解決方案。 近日， 兩家公司宣佈， 他們將開發出首個聯合納米壓印光刻（NIL）解決方案， 可用于在單納米尺度上生產3D光學結構。

獨特的解決方案將使用SwissLitho的新型NanoFrazor系統製作3D結構NIL主範本， 將以高輸送量與EVG的HERCULES NIL系統進行複製， 該系統具有公司的SmartNIL技術。

NanoFrazor提供減色熱掃描探針光刻技術支援， 該光刻技術是由IBM Research Zurich發明的，

後來被SwissLatho收購。 它圍繞無掩模、直寫式光刻方法， 在圖案化之前將熱敏抗蝕劑旋塗到樣品表面上。 抗蝕劑被局部分解並蒸發， 使用加熱的超尖尖， 同時檢查書寫的納米結構。 最終的抗蝕劑圖案可以通過諸如電鍍、成型和剝離的方法轉移到許多其它材料中。 據該公司稱， 該過程實際上可以被描述為“在納米尺度上進行反3D列印”。

“我們開發了NanoFrazor系列， 為昂貴的電子束光刻系統提供高性能且經濟實惠的替代方案和擴展。 該技術允許在一個步驟中製造具有許多“級別”的主機。 SwissLitho首席執行官Felix Holzner博士說：“與傳統電子束或灰度光刻方法相比， 具有單一納米精度的3D結構可以更容易地製造並具有更高的保真度。 我們期待與客戶合作，

將其技術與EVG在奧地利NILPhotonics能力中心的SmartNIL流程相結合。 ”

SwissLitho的NanoFrazor工具可以首次用於製造新的電氣、光學、磁性和生物納米器件。 對於EVG的聯合解決方案， 將使用NanoFrazor系統創建印記主人， 與更典型的方法（如電子束）相比， 該系統可以列印出非常精確的3D結構。

將使用公司的大面積納米壓印SmartNIL在EVG的HERCULES NIL系統上創建用於生產使用的工作範本。 HERCULES NIL將抗蝕劑加工、大批量製造解決方案和EVG的NIL專業技術結合到一個集成系統中， 為200-mm晶圓提供高達40 wph的輸送量。

該系統具有模組化的可配置平臺， 可以適應多種結構尺寸和壓印材料， 因此製造客戶可以享受更多的靈活性。 並且它的操作簡單， 可以通過其大功率燈具更快的固化， 並提供自動壓印和控制的低力分離， 以實現最大的工作重印性。 此外， 由於無法使用HERCULES NIL來製作多次使用的軟印， 因此擴展了主印記範本的使用壽命。

“SwissLitho的NanoFrazor解決方案與EVG的SmartNIL技術具有很強的互補性。 ”EV集團公司技術總監Thomas Glinsner博士說：“我們可以一起提供完整的NIL解決方案， 用於涉及3D結構圖案的光子學和其他應用，

為兩家公司提供了擴大客戶群和市場覆蓋面的重要機會。 我們的NILPhotonics能力中心將是對這個聯合解決方案感興趣的客戶的第一個連絡人， 我們將能夠提供可行性研究、示範和試點生產。 ”

聯合解決方案首先在一個由歐盟第七框架計畫資助的項目中展示， 稱為“超越CMOS器件（SNM）單納米製造”。 SwissLitho和EVG將一起首先使用該解決方案來開發衍射光學元件， 以及支援目標應用程式（如資料通信、增強/虛擬實境和光子學）的其他相關光學元件。 這些公司還表示， 該解決方案甚至可能“擴大到生物技術、納米流體和其他納米技術應用”。

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