一、濕式清洗
減壓清洗
在清洗槽內產生負壓，由於減壓，洗滌劑能較好地滲透到被清洗物和縫隙之間；和超聲波並用，清洗效果會大大增強。
噴霧清洗
在清洗槽內安裝噴淋管，
在氣相中將清洗液噴灑在被清洗物上的清洗方式。壓力可調 。
旋轉筒清洗
在清洗槽內安裝旋轉裝置，同時旋轉筒體和攪拌被清洗物。多與噴流、超聲波清洗組合使用。
搖動清洗
在清洗槽內安裝搖動機構，裝入被清洗物，使之在清洗槽內運動，多與噴流、超聲波清洗組合使用。
一．真空加熱清洗
二．紫外線輻照清洗
三．放電清洗
四.氣體沖洗
氮氣在材料表面吸附時，由於吸附能小，因而吸留表面時間極短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮氣的這種性質沖洗真空系統，可以大大縮短系統的抽氣時間。如真空鍍膜機在放入大氣之前，先用乾燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入大氣，則下一抽氣迴圈的抽氣時間可縮短近一半，
其原因為氮分予的吸附能遠比水氣分子小，在真空下充入氮氣後，氮分子先被真空室壁吸附了。由於吸附位是一定的，先被氮分子占滿了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽氣時間縮短了。如果系統被擴散泵油噴濺污染了，還可以利用氮氣沖洗法來清洗被污染的系統.一般是一邊對系統進行烘烤加熱，一邊用氮氣沖洗系統，可將油污染消除。
這種方法特別適用于大型超高不銹鋼真空系統的內部洗(去除碳氫化合物污染)。
通常對於某些大型超高真空系統的真空室和真空元件，為了獲得原子態的清潔表面，消除其表面污染的標準方法是化學清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統等方法。以上的清洗和除氣方法常用於真空系統安裝前及裝配期間。在真空系統安裝後(或系統運行後)，由於真空系統內的各種零部件已經被固定，
這時對它們進行除氣處理就很困難，一旦系統受到(偶然)污染(主要是大原子數的分子如碳氫化合物的污染)，通常要拆卸後重新處理再安裝．而用反應氣體工藝，可以進行原位線上除氣處理．有效地除去不銹鋼真空室內的碳氫化合物的污染.其清洗機理：在系統中引述氧化性氣體(O2、N0 )和還原性氣體(H2、N H3)對金屬表面進行化學反應清洗，消除污染，以便獲得原子態的清潔金屬表面。表面氧化／還原的速率取決於污染的情況及金屬表面的材質，表面反應速率的大小通過調整反應氣體的壓力和溫度來控制。對於每一種基材而言，精確的參數要通過實驗來確定.對於不同的結晶取向，這些參數是不同的．
文章來自于納米防水網：http://www.wateroff.cn/
表面氧化／還原的速率取決於污染的情況及金屬表面的材質，表面反應速率的大小通過調整反應氣體的壓力和溫度來控制。對於每一種基材而言，精確的參數要通過實驗來確定.對於不同的結晶取向，這些參數是不同的．
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