AMD拆分出去的晶圓代工業務GlobalFoundries(GF)曾經長期各種不靠譜， 新工藝要麼跳票， 要麼良率和產能跟不上， 多次迫使AMD更改產品規劃。 有這麼個“女朋友”， AMD也是苦不堪言。
但是這兩年隨著自身實力的增強， 以及外部合作的加深， GF是越來越靠譜了， 14nm工藝就展現了不俗的實力， 推動AMD Ryzen處理器、Vega顯卡表現均相當出色。
AMD也是對GF信心爆棚， 直接與其簽訂多年合作協定， 聯合跨過10nm， 直接奔向7nm。
GF首席技術官Gary Patton近日在上海舉行的一次技術會議上披露， GF EUV極紫外光刻技術的良品率已經提高到65％， 公司將按計劃推進EUV的商用和普及。
EUV極紫外光刻採用波長為10-14nm的極紫外光(軟X射線)作為光源進行晶片光刻，
GF也承認， EUV確實面臨很多挑戰， 必須努力克服才能投入規模化量產， 其目標是將良率提高到95％。
Patton確認， GF將在7nm上首次應用EUV技術， 目前已經在與AMD合作攻關， 但量產時間未披露。
AMD第二代Zen CPU架構、下一代Navi GPU架構， 都將採用GF 7nm。
今年初， GF曾經推出了7LP(Leading-Performance) FinFET工藝， 相比於14nm FinFET號稱性能可提升超過40％， 集成密度翻一番。
GF還在推進12LP FinFET工藝， 也就是現有14nm的升級版本， 將在2018年第一季度投產， AMD Ryzen第二代處理器就有望使用它。
