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三星:10nm良率很高 8/7/6nm也都來了

三星半導體業務這幾年的進步有目共睹, 新工藝進展神速而且表現優秀, Exynos系列處理器也是大殺四方。

三星電子今天宣佈, 10nm FinFET工藝自從2016年10月底率先投產以來, 按照預期取得了穩定的高良品率, 滿足了客戶需求——這顯然是在駁斥業內有關10nm良率不佳的傳聞。

三星透露, 迄今為止, 已經出貨了超過7萬塊採用第一代10nm LPE(Low Power Earlr)工藝製造的晶圓。

三星自家的Exynos 8895, 以及高通的驍龍835, 都採用這種工藝製造。

另外, 三星還宣佈增加8nm、6nm工藝, 它們分別是10nm、7nm的改進版, 官方宣稱“可比現有工藝提供更好的靈活性、性能、功耗優勢”, 滿足不同客戶需求,

帶來更強的成本競爭優勢。

三星將在5月24日舉辦美國三星代工論壇, 披露8nm、6nm的更多技術細節。

台積電16/12/10/7/5nm, 三星16/10/8/7/6nm……Intel你作何感想?

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