半導體微影技術大廠艾司摩爾(ASML)公佈2017第二季財報。 ASML在第二季新增8台EUV系統訂單， 讓EUV微影系統的未出貨訂單累積到27台， 總值高達28億歐元。 預估2017第三季營收淨額約為22億歐元， 毛利率約為43%。 因為市場需求和第二季的強勁財務表現， ASML預估2017全年營收成長可達25%。
ASML總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink)指出：“ASML今年的主要營收貢獻來自記憶體晶片客戶， 尤其在DRAM市場需求的驅動下， 這部分的營收預估將比去年成長50%， 而來自邏輯晶片方面的營收也可望成長15%。 在EUV微影系統部分， 未出貨訂單累積金額在第二季已經累積到28億歐元， 顯示不論邏輯晶片和DRAM客戶，
第二季產品重點摘要部份， 在深紫外光(DUV)微影方面， 推出最新浸潤式微影系統TWINSCAN NXT:2000i， 讓客戶得以在7納米和5納米制程節點上， 同時用浸潤式微影和EUV系統進行量產， 並達到2.5納米的疊對精度(on-product overlay)。 另一方面， 3D NAND客戶對於KrF乾式微影系統的需求持續升高， 目前TWINSCAN XT:860的未出貨訂單已累積超過20台。 TWINSCAN XT:860系統的生產力可達到每天曝光5,300片晶圓。
就全方位微影優化方案(Holistic Lithography)部份， 本季開始出貨最新的YieldStar 375F量測系統， 具備最新的光學技術， 可更快、更精准的獲取量測結果。 至於極紫外光(EUV)微影， 在荷蘭總部已經成功將升級的EUV光源整合進NXE:3400B系統中，
展望2017年第三季， ASML預估整體銷售淨額可達22億歐元， 毛利率約落在43%， 其中包含約3億歐元的EUV營收認列。 研發投資金額提高到3.15億歐元， 其他收入部份(包括來自于客戶共同投資計畫的收入)約為2,400萬歐元， 而管銷費用(SG&A)支出則約1.05億歐元， 年化稅率約14%。 ASML預計在第三季會有另外3台NXE:3400B EUV微影系統完成出貨。